設備名称	X線光電子分光装置 Phi GENESIS
機関・部局名	新潟大学　共用設備基盤センター
設置場所	環境エネルギー棟３階　308
どのような分析・計測ができるのか	XPSは、サンプルにX線を照射し、発生する光電子の運動エネルギーを測定する。 観測されたピーク位置によって、サンプル表面の元素組成やその化学結合状態を知ることができる。化学結合によるエネルギー準位の変化が、他の手法より大きく出るので化学結合状態を容易に観測できる。ピーク強度によって定量計算も可能。
設備の仕様	X線源：Al Kα線、５μｍビームによるSXI画像での正確な測定位置決定、高感度アナライザーによる大面積・高スループット分析、微小集光Ｘ線による詳細なマッピング分析、自己最適化デュアルビーム中和によるピークシフト防止、Ａｒモノマー／ＡｒＧＣＩＢ（クラスター）イオン銃によるサンプル特性に応じた適切なエッチングでの深さ方向分析　 ●オプション：深紫外光電子分光分析（UPS）低エネルギー逆電子部分光分析（LEIPS）、反射電子エネルギー損失分光分析（REELS）、ArGCIBイオン銃、加熱冷却ホルダー
共同利用の可否	学内　/　学外教育・研究機関　/　学外公的機関　/　企業
共同利用可能な場合の形態	学内	依頼分析
	学外	依頼分析
予約に対する承認の有無	学内の利用者による予約	予約可 (承認後利用)
	学外利用者による予約	予約不可
利用可能時間帯	平日	終日利用不可
	土日祝	終日利用不可

担当者氏名	中島　泰洋
電話番号	025-262-7313
e-mail	nakajimay0@cc.niigata-u.ac.jp
URL

キーワード	XPS　表面分析

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